2.第三元素の均一分散が可能です
当社で使用する粉体のプロセスではTi,Alの他に第三元素を容易に添加することが可能です。図4には例として比重差のある重元素を添加したターゲット内部での重元素分布を示しておりますが、均一に分散していることが判ります。添加は各種の金属、化合物(酸化物、炭化物など)も可能ですが、不可能な元素、量的な制限もありますので第三元素の添加を御希望される際には御相談をお願い致します。
尚、お客様に当社のターゲットを使用していただいておりますが、次のような好評をいただいております。
1.高密度であるため、異常放電の原因となる粗大欠陥もなく放電の安定性や均一消耗性に優れている
2.金属間化合物相から成るため、融点差による異常蒸発やドロップレットの発生が少ない
3.微細な金属間化合物相が均一に分散しているため、得られた膜の性能バラツキが少なく処理バッチ間での品質差が少ない成膜が可能