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エンジニアリングセラミック炭化珪素セラミックス(NPS−1、4)

セラミックスの中で高い硬さを持ち、耐酸化耐食性に優れた材料

・半導体製造装置やその周辺部材など耐摩耗性、高剛性などの機械的特性が要求される用途
・高温や酸またはアルカリ溶液中で使用される用途

炭化珪素“NPS-1、4”の特徴
1.軽比重   比重3.1(アルミナの3/4、超硬合金の1/5)
2.高硬度   Hv2400(アルミナの1.3倍)
3.高剛性   ヤング率410GPa(鉄系材料の約2倍)
4.耐酸化性  600℃大気中使用で面粗さ劣化なし
5.耐食性   強酸(HCl,H2SO4,HNO3)、強アルカリ(NaOH,KOH)環境でも重量減少なし

NPS-4へのCVD(Chemical Vapor Deposition )-SiC膜形成

使用面に優れた面粗さや鏡面性が必要な場合はCVD-SiC膜を形成することができます。

弊社CVD-SiC膜の特徴

・ポアフリーであるため、優れた鏡面が得られます(Ra0.05μm以下)。
・中間層を形成しないので、密着性に優れます。
・100μm以上の厚膜形成が可能です。
・最大φ300mmへの均一な成膜が可能です。

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